 תהליך ייצור חדש של מוליכים למחצה, המשלב סיליקון במתח גבוה
עם CMOS בתת-מיקרון נמוך וטכנולוגיות ביפולריות משלימות.
מאמצי מו"פ נרחבים הובילו לטכנולוגיית התהליך
CMOS industrial (iCMOS), המאפשר רמות גבוהות של ביצועים,
תכנון ונצילות עלויות ביישומי מתח גבוה, לדוגמת, אוטומציית
מפעל ובקרות תהליך. 15 רכיבים אנלוגיים חדשים הוכרזו כדי
למנף את התהליך החדש.
|
